新材料工学 586-新韩网

新材料工学 586

姓名：洪**

性别：男

国籍：韩国

联系电话：0631-5651499

E-Mail：xinhanrc@163.com

教育经历

首尔大学无机材料工学系工学学士
U.C.Berkeley 材料工学工学硕士
U.C.Berkeley 材料工学工学博士

研究方向

显示屏、传感器、新再生能源元件应用薄膜材料

主要成果

部分论文：
结晶度和杂质对Li-La-Zr-O薄膜导电性的影响
低温催化CVD制备氮化硅薄膜的电学性能与工艺参数的相关性
脉冲激光沉积中分裂靶的YSZ/GDC多层膜及其结构和电学性能
高度稀释SiH4在150°C制备PECVD氮化硅薄膜的材料性能的影响

首尔市立大学

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